石墨又叫“筆鉛”或“黑鉛”，主要成分為碳(C)。自然界產出的石墨是在高溫條件下還原作用中形成的。分布*廣的是沉積變質成因的石墨，系由富含有機質或碳質的沉積巖經受區域變質作用而成。如煤層或含碳質的沉積巖經變質作用可生成石墨；巖漿巖與石灰巖接觸，石灰巖分解出來的CO2經過還原作用也可形成石墨。石墨很少是純的，常含有多量的機械混入物，如石英、云母、硫酸鹽、氧化鐵、氧化鎂、氧化鈣、五氧化二磷等。有時還有CO2、CO、H2、CH4、N2等氣體及水和瀝青等。

    石墨(mo)顏色由鐵灰(hui)(hui)至鋼灰(hui)(hui)，條痕黑色，具有(you)顯(xian)著的(de)(de)光(guang)學(xue)不(bu)均勻(yun)性(xing)、硬度不(bu)均質性(xing)，以(yi)及(ji)不(bu)透明、具有(you)金(jin)屬光(guang)澤等，隱晶質的(de)(de)則(ze)暗淡無光(guang)。硬度1～2，比(bi)(bi)重(zhong)2.09～2.23，次等石墨(mo)比(bi)(bi)重(zhong)為1.84～1.98。(比(bi)(bi)重(zhong)的(de)(de)變(bian)化(hua)由氣泡(pao)的(de)(de)多寡而決定(ding)(ding))。薄片(pian)(pian)能(neng)彎曲，有(you)滑膩(ni)感，能(neng)污染紙片(pian)(pian)和手指(zhi)。石墨(mo)傳熱(re)性(xing)強(比(bi)(bi)銅和鋁(lv)還高),具有(you)高度的(de)(de)導電性(xing),能(neng)耐(nai)3000℃以(yi)上高溫，熔(rong)點3800℃，沸點4250℃，具有(you)可塑性(xing)，化(hua)學(xue)穩(wen)定(ding)(ding)性(xing)強，不(bu)溶(rong)于酸堿。

    等靜壓石墨用途廣泛，主要應用于太陽能電池及半導體晶片用石墨、連續鑄造結晶器石墨及模具石墨等石墨(mo)熱場材料生產。

    光伏產業(ye)(ye)用石(shi)(shi)墨(mo)材(cai)料(liao)：由于(yu)等(deng)(deng)靜(jing)(jing)壓(ya)(ya)石(shi)(shi)墨(mo)材(cai)料(liao)的(de)具備高強、高密(mi)、各(ge)(ge)向同性(xing)好，制成的(de)石(shi)(shi)墨(mo)部(bu)件(jian)在使用過程中(zhong)受熱(re)、加熱(re)都較均勻，同時由于(yu)材(cai)料(liao)的(de)密(mi)度均勻能夠有(you)效的(de)減小(xiao)材(cai)料(liao)受急(ji)冷急(ji)熱(re)而產生的(de)內應力（抗(kang)熱(re)震(zhen)性(xing)能好），故可大(da)大(da)延長設備或器具的(de)使用壽(shou)命周期，所以在半導體(ti)、太(tai)陽能行業(ye)(ye)中(zhong)，大(da)量用等(deng)(deng)靜(jing)(jing)壓(ya)(ya)石(shi)(shi)墨(mo)（各(ge)(ge)向同性(xing)石(shi)(shi)墨(mo)），制作(zuo)CZ型(xing)單晶直拉爐熱(re)場石(shi)(shi)墨(mo)部(bu)件(jian)（坩(gan)堝(guo)(guo)、加熱(re)器、導流(liu)筒、保罩等(deng)(deng)）；多(duo)晶硅(gui)熔(rong)鑄(zhu)爐用加熱(re)器、；化(hua)合物半導體(ti)制造用加熱(re)器、坩(gan)堝(guo)(guo)、等(deng)(deng)部(bu)件(jian)。等(deng)(deng)靜(jing)(jing)壓(ya)(ya)石(shi)(shi)墨(mo)屬(shu)于(yu)石(shi)(shi)墨(mo)材(cai)料(liao)中(zhong)的(de)精品，具有(you)其(qi)他普通石(shi)(shi)墨(mo)不具備的(de)優異性(xing)能，是(shi)多(duo)晶硅(gui)、單晶硅(gui)制造業(ye)(ye)熱(re)場中(zhong)耐熱(re)材(cai)料(liao)的(de)*選基(ji)礎性(xing)材(cai)料(liao)。

    在(zai)國內，等(deng)靜壓消費領(ling)域分布(bu)為(wei)：太陽能材料制造(zao)51.38%、電火花加工15.41%、塊孔(kong)式熱交換器和(he)(he)高(gao)(gao)溫氣冷(leng)堆(dui)各(ge)11.01%、連鑄造(zao)5.5%、軍(jun)工1.65%，光線和(he)(he)高(gao)(gao)溫真空熱處理各(ge)1.47%，其他(ta)1.1%。2010年(nian)*每年(nian)消耗等(deng)靜壓石墨5.75萬噸，中國消耗等(deng)靜壓石墨為(wei)1.6萬噸。