技術(shu)

合金襯底(di)表面(mian)的凈化和脫鈷處(chu)理

   然后(hou)用酸處理深層(ceng)的鈷(gu)來提高金(jin)(jin)(jin)剛(gang)石沉積質量和附著(zhu)力(li) CVD的方(fang)法在合金(jin)(jin)(jin)基底上(shang)再次沉積金(jin)(jin)(jin)剛(gang)石膜(mo)，通過(guo)對金(jin)(jin)(jin)剛(gang)石表面(mian)進行拋光(guang)來獲得較低的表面(mian)粗(cu)糙(cao)(cao)度，利用電(dian)弧離子(zi)鍍設備(bei)，在電(dian)極和陰(yin)極金(jin)(jin)(jin)屬靶材之間引發電(dian)弧放(fang)電(dian)，然后(hou)在電(dian)弧離子(zi)鍍設備(bei)中對金(jin)(jin)(jin)剛(gang)石涂層(ceng)施加(jia)負(fu)偏壓，金(jin)(jin)(jin)剛(gang)石膜(mo)表面(mian)將會受到金(jin)(jin)(jin)屬離子(zi)轟擊，細化(hua)表面(mian)晶粒以使得表面(mian)光(guang)滑(hua)降(jiang)低粗(cu)糙(cao)(cao)度。

涂層附著(zhu)力好(hao)且抗氧(yang)化性強

   通過(guo)(guo)對金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)涂(tu)層(ceng)鉆頭(tou)的(de)(de)結構進行優化(hua)即改(gai)變刀(dao)(dao)具(ju)刃口形狀(zhuang)和膜的(de)(de)厚度(du)，或者通過(guo)(guo)提高金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)涂(tu)層(ceng)的(de)(de)韌性來提高附著力(li)，通過(guo)(guo)測(ce)試，發現其金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)涂(tu)層(ceng)鉆頭(tou)對硅鋁合(he)金(jin)具(ju)有(you)*的(de)(de)加工(gong)效率，下圖所示。由于(yu)金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)在高溫下加工(gong)鐵系材料和耐(nai)熱材料（鈦合(he)金(jin)）會被(bei)氧(yang)化(hua)而降(jiang)低其切(qie)割效率和應用(yong)領域，通過(guo)(guo)對涂(tu)層(ceng)結構進行改(gai)進，*先在鉆頭(tou)上進行摻硼金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)膜的(de)(de)沉積，然后(hou)再利用(yong)PVD法鍍一(yi)層(ceng)金(jin)屬互化(hua)物（如TiAlN等(deng)），在保(bao)證金(jin)剛(gang)(gang)石(shi)加工(gong)強度(du)的(de)(de)前提下，有(you)效的(de)(de)提高了刀(dao)(dao)具(ju)的(de)(de)抗氧(yang)化(hua)性能，延長(chang)了刀(dao)(dao)具(ju)的(de)(de)壽命和應用(yong)領域。

具(ju)有光滑表面的微結晶(jing)

   拋光技術用于金剛石(shi)表(biao)面晶粒(li)的(de)細化通(tong)常能(neng)夠(gou)獲得(de)光滑的(de)表(biao)面，但是對(dui)于幾何形(xing)狀復雜的(de)刀具材(cai)料(liao)將會(hui)限制其應用，沉積金剛石(shi)薄膜的(de)過程中通(tong)過控制二次形(xing)核條件能(neng)夠(gou)得(de)到晶粒(li)尺寸較小(xiao)的(de)微(wei)結晶金剛石(shi)涂(tu)層立銑(xian)刀，其刀具表(biao)面粗糙度很(hen)小(xiao)，與普通(tong)金剛石(shi)涂(tu)層相(xiang)比(bi)較具有更高的(de)加工(gong)精度和耐磨耐用性能(neng)，是加工(gong)硅鋁材(cai)料(liao)的(de)利器。